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獵戶座3100系統(tǒng):完善的空氣分子污染物監(jiān)測系統(tǒng)
實時監(jiān)測空氣分子污染(AMC )對于半導體生產過程極為重要。
快速監(jiān)測、報警、極低濃度測量、寬測量區(qū)域、多氣體的高靈敏響應等是半導體工業(yè)要求之一。深紫外光刻工藝特別關注氨、胺類、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸類等濃度測量,當這些氣體與化學放大光刻膠反生反應 時,將深深的影響半導體器件質量。
傳統(tǒng)古老的方法多采用間接測量分析方法。包括撞擊濾塵器、離子色譜、化學熒光法,這些方法分析速度太慢,操作過程太復雜,昂貴并且測量結果不精確。
CEAS (腔增強吸收光譜)---原理
基于CEAS(腔增強吸收光譜)技術的儀器原理圖,使用近紅外波段光進行高靈敏度吸收測量,測量腔室由一組高反射率多次反射鏡片組成的柱狀體構成,激光束經過固態(tài)校準器(FSR=2.00GHz)時會測量得到相對激光波長。為了保證清晰度,忽略了原本照射到左側測量單元腔鏡外的光束。
EP增強型版本集成了壓力傳感器和內部溫度控制器,具有超穩(wěn)定性測量腔室,防止溫度漂移、壓力變化等造成的誤差。
CEAS(腔增強吸收光譜)相比于第一代的CRDS(腔衰蕩光譜)技術,有許多已被證明的優(yōu)勢。簡而言之,激光束不需要 共振耦合進入測量腔室(例如光束不需要嚴格對準)。DUKE分析儀器和系統(tǒng)具有天生安裝簡單、機械牢固、防護結實等特點。